NexWAFE renforce sa direction avec un nouveau PDG

Dr. Davor Sutija rejoint l'équipe de direction de NexWafe en tant que PDG de la société. Dr. Stefan Reber restera directeur de la technologie et directeur général. 

FREIBURG, Allemagne, 1er septembre 2020 /PRNewswire/ -- NexWafe a annoncé aujourd'hui que Davor Sutija rejoindra la société le 1er septembre en tant que PDG.

Davor Sutija possède une expérience approfondie dans la direction de sociétés de technologie de premier plan et dans leur expansion à l'international. Il est un vétéran de la production de plaquettes de silicium, ayant cofondé SiNor (aujourd'hui Norwegian Crystals), acquise par REC en 2004. En tant que SVP chez FAST, une société de recherche d'entreprise, et en tant que PDG chez Thin Film Electronics, un leader mondial de l'électronique imprimée, il a réussi à créer de la valeur pour les actionnaires en établissant de nouveaux marchés et en étant le précurseur de produits technologiques révolutionnaires.

« Je suis très heureux d'annoncer la nomination de Davor Sutija au poste de PDG, alors que la société entre dans la phase commerciale. Son expérience approfondie en gestion et ses compétences éprouvées en leadership, ainsi que sa solide orientation commerciale et son impressionnant carnet de route en création de valeur profiteront énormément à l'entreprise lorsque nous effectuerons les expéditions aux clients au début de l'année prochaine », a déclaré Peter Pauli, président de NexWafe.

Dr. Stefan Reber, co-fondateur et directeur de la technologie a confié pour sa part, « Alors que NexWafe progresse vers des expéditions commerciales, je suis heureux d'accueillir Davor à bord. Davor complétera notre équipe et nous aidera à bâtir une société de produits technologiques de classe mondiale. »

NexWafe a joué un précurseur dans l'utilisation de l'épitaxie à processus continu pour produire des plaquettes de silicium monocristallin dont l'empreinte carbone est la moitié de celle des plaquettes ordinaires. En minimisant les déchets grâce à un processus de fabrication « direct-gas-to-wafer », NexWafe peut produire des tranches plus minces et carrées dotées de propriétés supérieures. La société intensifie une production pilote de 5 MW en Freiburg/Allemagne et prévoit de commencer à approvisionner les clients qualifiés au 1er semestre 2021. En assurant le rendement maximal des cellules solaires, les produits de NexWafe réduiront de plus de 20 % le coût de l'électricité photovoltaïque. Lorsque la qualification sera complétée, NexWafe prévoit de commencer la mise à l'échelle industrielle dans son usine de production de Bitterfeld dans le but de produire plus de 450 millions de plaquettes par an d'ici 2023. Avec ses produits ultra-minces à haut rendement EPINEXtm prêts pour l'expédition début 2021, NexWafe s'apprête à dominer le photovoltaïque et l'industrie solaire dans une nouvelle ère. 

À propos de NexWafe GmbH 

www.nexwafe.com 

NexWafe est spécialisée dans l'industrialisation de technologies innovantes pour la production épitaxiale de plaquettes de silicium pour le photovoltaïque. À Freiburg, en Allemagne, la société exploite une chaîne de production pilote de plaquettes monocristallines de haute qualité entièrement compatibles avec la fabrication conventionnelle de cellules et de modules solaires. Dans le procédé EpiWafer exclusif de NexWafe, une couche de silicium cristallin est déposée sur une plaquette de germes puis détachée. Cette technologie révolutionnaire permet de produire des plaquettes de n'importe quelle épaisseur. Grâce au nouveau processus de fabrication simplifié, les investissements en capital sont réduits de 50 % par rapport au procédé de croissance de cristaux traditionnel et les émissions de CO₂  de la fabrication sont réduites de 70 %. NexWafe a été dérivée de l'Institut Fraunhofer pour les systèmes d'énergie solaire ISE en 2015. Saudi Aramco Energy Ventures (SAEV) et Green Growth Fund 2 (GGF2) sont ses principaux investisseurs.

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NexWafe GmbH
Dr. Stefan Reber
Directeur de la technologie et fondateur
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